مشخصات پژوهش

عنوان	رشد و بررسی خواص نانو ساختاری اکسید تیتانیوم و نیتراید آلومینیوم
نوع پژوهش	مقاله چاپ شده
کلیدواژه‌ها	نیمرسانا، سیماس، TiO2، Al2O3، SEM, AES
چکیده	اکسید تیتانیوم و نیترید آلومینیوم را در شرایط به ترتیب فشار بالا و فشار بسیار پایین بر زیر لایه سیلیکونی رشد داده ایم و با استفاده از تکنیکهایی نظیر تابش سینکروترونی,( AES (Auger Electron Spectroscopy و( SEM (Scanning Electron Microscope به مطالعه ساختار آنها پرداختیم. بررسیهای به عمل آمده نشان می دهند که فیلم آمورف اکسید تیتانیوم و یا نیترید آلومینیوم بر زیر لایه سیلیکون شکل گرفته است که این ویژگی در کنار بالا بودن ثابت دی الکتریک آنها, می تواند از آنها یک گیت دی الکتریک مناسب به جای اکسید فرا نازک سیلیکون بسازد.
پژوهشگران	ماندانا رودباری (نفر چهارم)، مونا امیرصادقی (نفر سوم)، کبری حسن زاده (نفر دوم)، علی بهاری (نفر اول)